- オランダは米国と中国の間の政治的緊張に巻き込まれており、前者は北京がより高度なチップ技術を使用しないようにすることを目指しています。
- オランダのレシェ・シュレネマッハー外務大臣は、「国内および国際的な安全保障のために、半導体製造に使用される特定の機器に対する現在の輸出管理の枠組みを拡大する必要がある」と述べた。
- 中国は国内の半導体産業を後押ししていますが、台湾、韓国、米国などにはまだ大きく遅れをとっています。
オランダのフェルドホーフェンにある ASML 工場での製造中に、ASML Twinscan XT1000 リソグラフィー装置内のケーブルのそばに立つ従業員。
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「技術の発展と地政学的な状況を考慮して、政府は、半導体製造に使用される特定の機器に対する既存の輸出管理の枠組みを、国家および国際的な安全保障のために拡大する必要があるという結論に達しました。」 Lesge Schrenemacher 通商相は、水曜日に議会に宛てた書簡で次のように述べた。
書簡は中国に言及していないが、2022年に特定の半導体チップへの北京のアクセスを制限する輸出制限を課したホワイトハウスからの圧力を受けている。 当時、米国の当局者は、他の国が同様の制限を課していなければ、輸出規制も課すだろうと認識していました。 効力を失います 時間とともに。
2018 年以降、米国はオランダ政府に対し、ASML による中国への紫外線露光装置の出荷を停止するよう求めていると伝えられています。 ASML はまだ機器を中国に出荷していません。
オランダ政府の発表を受けて、ASML は声明の中で次のように述べています。
「本日の発表、オランダ政府のライセンス政策に対する当社の予想、および現在の市場状況に基づいて、これらの措置が当社の財務見通しに重大な影響を与えるとは考えていません」と同社は水曜日に述べ、「追加の輸出はコントロールは、すべての水中リソグラフィ ツールに関連するわけではなく、いわゆる「最先端」ツールにのみ関連します。
ASML は、オランダ政府が「より高度な」機械について何を意図しているのかは明らかではないと述べた。
しかし、規制により、メモリーチップの製造に使用される、いわゆる液浸紫外線 (DUV) リソグラフィー装置を輸出するには、ライセンスを申請する必要があると述べています。 これらのチップは、スマートフォンからラップトップ、サーバーまで、さまざまなデバイスで使用されており、最終的には AI アプリケーションに使用される可能性があります。
先月、ASML は、中国の元従業員が独自の技術に関するデータを流用したと述べました。
中国は国内の半導体産業を後押ししていますが、台湾、韓国、米国などにはまだ大きく遅れをとっています。
ロイター通信によると、中国外務省は木曜日、経済貿易協力の政治化に反対し、オランダが客観的な立場を維持することを望んでいると述べた。
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